無(wú)錫泊鎮(zhèn)尾氣處置電子設(shè)備尾氣再生塔簡(jiǎn)介

按JGD5相碰觸型態(tài)分為三類(lèi)。*類(lèi)是固體以氣泡型態(tài)零散在固相中的機(jī)械式塔、接合處稀釋塔、攪拌接合處稀釋塔;第二類(lèi)是固體以液滴狀零散在固相中的巢蛛、文氏管、噴霧塔;第三類(lèi)為液體以顴突運(yùn)動(dòng)與固相進(jìn)行碰觸的石蠟稀釋塔和降膜稀釋塔。

尾氣再生塔類(lèi)型

1.湍球塔

mm)，稀釋劑自高塔噴下，濕潤(rùn)陀螺表層，固體從塔底步入，陀螺被刮起湍動(dòng)旋轉(zhuǎn)，由于氣、液、固三相充份碰觸，陀螺表層毛序不斷改進(jìn)，增加了稀釋推動(dòng)力。提高了稀釋效率。

該塔鍛造、加裝、維修較方便，可以用大小、溫，陀螺易裂(一般0.5-1NA)，需經(jīng)常更換，成本高。

2.石蠟塔

它由機(jī)殼、石蠟、石蠟車(chē)軸、固體原產(chǎn)器、中間車(chē)軸和再原產(chǎn)器、固體和固體進(jìn)出口接管等部件組成，塔機(jī)殼多采用金屬材料，也可用塑料鍛造。

石蠟是填料塔的核心，它提供了高塔JGD5兩相的碰觸面，石蠟與塔的內(nèi)部結(jié)構(gòu)決定了塔的性能。石蠟必須具備較大的比表層，有較高的空隙率、良好的溶化性、耐熱、一定的機(jī)械強(qiáng)度、表面積小、價(jià)格低廉等。常用的石蠟有拉半山、鮑爾環(huán)、

石蠟塔適用于快速和瞬間反應(yīng)的吸收過(guò)程，多用于固體的再生。該塔內(nèi)部結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，易于用耐熱材料制作，JGD5碰觸面積大，碰觸時(shí)間長(zhǎng)，氣量變化時(shí)塔的適應(yīng)性強(qiáng)，塔空氣阻力小，壓力損失為300-700Pa，與機(jī)械式塔相比處置冷卻系統(tǒng)小，空塔氣速通常為0.5-1.2m/s，氣速過(guò)大會(huì)形成液泛，除塵表面積6-8m3/(m2，h)以保證石蠟溶化，DDR400比控制在2-10L/m3。石蠟塔不宜處置含塵量較大的煙氣，設(shè)計(jì)時(shí)需克服高塔JGD5原產(chǎn)不均的問(wèn)題

3.機(jī)械式塔

機(jī)械式塔是在塔內(nèi)裝有一層層的塔板，固體從高塔步入。固體從塔底步入，JGD5的charged、傳熱過(guò)程是在各個(gè)塔板上進(jìn)行。機(jī)械式塔類(lèi)型很多。大致可分為二類(lèi):一類(lèi)是降液雙管，如泡罩塔、implantation板塔、浮閥塔、S形單向身管塔、藍(lán)子魚(yú)板塔、浮動(dòng)噴射塔等;另一類(lèi)是穿INS13ZD板塔，如穿流柵孔板塔(淋降板塔)、波浪穿身管塔、菱形斜孔板塔、沙芥穿身管塔等。

(1)斜孔板塔

速率一般取1~3.5m/s，implantation冷空氣速率取10~15m/s。固體從斜孔水平噴出，相鄰兩孔的管吻路徑相反，交錯(cuò)排列，固體經(jīng)出水口堰供至塔板(堰高30mm)，與冷空氣路徑垂直流動(dòng)，造成JGD5的高度湍流，使JGD5表面不斷改進(jìn)，JGD5充份碰觸，charged效果良好，再生效率高，同時(shí)可以處置含塵固體，不易堵塞，四層薺的空氣阻力約為400~600Pa。該塔內(nèi)部結(jié)構(gòu)比implantation板塔復(fù)雜，鍛造較困難，加裝要求嚴(yán)格，容易發(fā)生Voiteur。

(2)implantation板塔

篩孔直徑一般取5~10mm，implantation總面積占薺的面積的10%~18%。為使薺的上液層厚度保持均勻，薺的上設(shè)有出水口堰，液層厚度一般為40mn左右，薺的空塔風(fēng)速約為1.0~3.5m/s，薺的小孔氣速6~13m/s，四層薺的空氣阻力300~600Pa。implantation板塔主要優(yōu)點(diǎn)是構(gòu)造簡(jiǎn)單，處置冷卻系統(tǒng)大，并能處置含塵固體。不足之處是implantation堵塞清理較麻煩，塔的加裝要求嚴(yán)格，塔板應(yīng)保持水平;操作彈性較小。

(3)文氏管稀釋器

文氏管稀釋器通常由文氏管、噴霧器和旋風(fēng)分離器組成，操作時(shí)將固體霧化噴射到文氏喉管的冷空氣中，冷空氣速率為60~100m/s，處置100m3/min的尾氣需固體霧化噴人量為40L/min。文氏管稀釋器內(nèi)部結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、電子設(shè)備小、占空間少、氣速高、處置量大、JGD5碰觸好、charged較容易，特別適用于捕集冷空氣中的微小顆粒物。但因JGD5并流，JGD5碰觸時(shí)間短，不適合難溶或反應(yīng)速率慢的JGD5稀釋，而且壓力損失大(800~9000h)，能耗高。

蘇州泊鎮(zhèn)尾氣處置電子設(shè)備內(nèi)部結(jié)構(gòu)

高塔JGD5兩相的流動(dòng)方式可以逆流也可并流。通常采用逆流操作，稀釋劑以高塔加入自上而下流動(dòng)，與從下向上流動(dòng)的固體碰觸，稀釋了稀釋質(zhì)的固體從塔底排出，再生后的固體從高塔排出。

尾氣再生塔應(yīng)具備以下基本要求:

◇ 高塔固體與固體應(yīng)有足夠的碰觸面積和碰觸時(shí)間。

◇ JGD5兩相應(yīng)具有強(qiáng)烈擾動(dòng)，減少charged空氣阻力，提高稀釋效率。

◇ 操作范圍寬，運(yùn)行穩(wěn)定。

◇ 電子設(shè)備空氣阻力小，能耗低。

◇ 具有足夠的機(jī)械強(qiáng)度和耐熱能力。

◇ 內(nèi)部結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、便于鍛造和檢修。

產(chǎn)品實(shí)物圖：

       藍(lán)陽(yáng)環(huán)保電子設(shè)備有限公司專(zhuān)業(yè)從事大氣污染治理技術(shù)研究，KF，設(shè)計(jì)與咨詢(xún)，在大氣污染治理行業(yè)的多個(gè)領(lǐng)域里，依托自主研發(fā)的高質(zhì)量的產(chǎn)品，提供擁有自己核心技術(shù)的解決方案。

公司主要大氣污染治理電子設(shè)備：有機(jī)尾氣吸附脫附再生裝置、蓄熱式焚燒再生裝置（RTO）、等離子再生裝置、酸堿尾氣再生塔、有毒有害尾氣稀釋塔、不銹鋼燃燒塔、光催化氧化裝置、高壓靜電裝置、惡臭固體生物除臭成TA-O電子設(shè)備、工業(yè)油煙再生器、粉塵處置系統(tǒng)，產(chǎn)品廣泛運(yùn)用于光伏產(chǎn)業(yè)、太陽(yáng)能電池、電子半導(dǎo)體、冶金、鋼鐵、有色冶煉、醫(yī)藥化工、市政環(huán)保等G家大中型企業(yè)，以先進(jìn)的技術(shù)、成熟的工藝與及時(shí)周到的售后服務(wù)取得了優(yōu)異的成績(jī)，贏得了G內(nèi)外眾多企業(yè)的*好評(píng)。