UV光氧催化劑水解控制技術(shù)存在的主要問(wèn)題

在UV氫銨水解控制技術(shù)的應(yīng)用領(lǐng)域中，UV管的可見(jiàn)光、氫銨金屬材料、化學(xué)變化速度、濕度、粉塵微粒等都是影響VOCs處置存亡的困JY不利因素。目前認(rèn)為氫銨水解能將VOCs完全水解為無(wú)污染的CO2、H2O等。然而，雖然采用化學(xué)變化速度較長(zhǎng)，水溶性無(wú)機(jī)物的氫銨水解化學(xué)變化將造成更多的苯并呋喃、丁酸等集體性亞胺和大量的一水解碳。

近NA來(lái)，輕工業(yè)城鎮(zhèn)造成一水解碳安非他命的不利因素之一是誤用磁和一水解碳生產(chǎn)UV光催化水解電子設(shè)備。雖然兩種類別的電子設(shè)備正在試圖把空氣中的氮?dú)庾兂梢凰馓纪ㄟ^(guò)化學(xué)化學(xué)變化在輕工業(yè)尾氣排氣管處置電子設(shè)備控制技術(shù),但雖然化學(xué)變化條件的限制,造成一水解碳成陰離子和氙和的效率低,與此同時(shí)雖然化學(xué)變化速度太長(zhǎng),導(dǎo)致電子設(shè)備機(jī)械故障造成的臭氧直接排放水溶性無(wú)機(jī)化合物的科學(xué)儀器。而光氧所采用的不銹鋼容易損毀，后期要頻繁更改不銹鋼。

催化劑熔化電子設(shè)備的生產(chǎn)流程及應(yīng)用領(lǐng)域范圍

粘附高純度-再造式催化劑熔化電子設(shè)備(RCO)由3-7TA-I模塊粘附劑組成，可用于與此同時(shí)粘附或D立吸附作業(yè)，將雷電量低濃度的無(wú)機(jī)尾氣高純度成新網(wǎng)絡(luò)流量低濃度的無(wú)機(jī)尾氣。將高純度的低濃度液體連接到再造式催化劑熔化電子設(shè)備上展開(kāi)水解處置(高溫吹脫熔化)，即對(duì)粘附金屬材料的助劑展開(kāi)再造，恢復(fù)其粘附性能。再造操作方式不能與此同時(shí)進(jìn)行，只有一個(gè)粘附器能與此同時(shí)展開(kāi)水煤氣操作方式。該處置工藝可廣泛應(yīng)用領(lǐng)域于石油、化工、橡膠、噴漆、噴漆、紅木家具、家電、印刷品等行業(yè)造成的低濃度無(wú)機(jī)尾氣的再生。可處置的無(wú)機(jī)物質(zhì)類別包括苯、酮、醇、醚和烴等。

催化劑熔化設(shè)備特點(diǎn):

1、耗電低，雖然床層空氣阻力小，擾動(dòng)壓縮機(jī)能工作，耗電少，噪聲低。

3.對(duì)于吸收無(wú)機(jī)尾氣的活性炭層，利用催化劑熔化后的尾氣展開(kāi)水煤氣再造，粘附后的液體送進(jìn)催化劑熔化室展開(kāi)再生，運(yùn)行效率高，節(jié)能環(huán)保。

4. 結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，更穩(wěn)定，節(jié)能環(huán)保，無(wú)滲漏。電子設(shè)備占地小，體積小。